Зведений каталог бібліотек Харкова

 

Толстенок, О. А.
    Влияние режимов окисления и отжига на дефектность кремния в структурах с диэлектрической изоляцией. [Текст] / О.А. Толстенок, Т.А. Холомина // Известия вузов. Материалы электронной техники. 2 , 2003. — С. 32-34.


- Анотація:

Исследована дефектность поверхности кремния после окисления и отжига.

- Є складовою частиною документа:

- Теми документа

  • УДК // Електронні напівпровідники
  • УДК // Кремній Si/Кремний/Silicon



Наявність
Установа Кількість Документ на сайті установи
Науково-технічна бібліотека Національного аерокосмічного університету ім. М.Є. Жуковського   Перейти на сайт