Представлены результаты экспериментальных исследований процесса заполнения щелей слоями, полученными при пониженном давлении. На основании конфортности осаждения слоев выведена формула непланарности высоты микрорельефа над щелью от толщины осаждаемых слоев.

Известия вузов. Электроника. [Текст] // Известия вузов. Электроника ; Министерство образования РФ, Московский государственный институт электронной техники - М. : МИЭТ. — 2003.

• УДК // Виробництво інтегральних мікросхем та мікроелектронних приладів