Приведены результаты экспериментального исследования распределения плотности ионного тока в рабочем объеме технологической плазменно=ионной установки при различных расстояниях до испарителя, от тока фокусирующего магнита, от напряжения на подложке, от давления азота, от тока дуги при работе одного и двух испарителей в режиме очистки, интенсивного ионного азотирования, ионной имплантации и ионного легирования.

Авіаційно-космічна техніка і технологія [Текст] : наук.- техн. журн. / М-во освіти і науки України, Нац. аерокосм. ун-т ім. М. Є. Жуковського "Харк. авіац. ін-т". — Х. : Нац. аерокосм. ун-т ім. М. Є. Жуковського "Харк. авіац. ін-т", 2003. — 180 с.

• Праці співробітників ХАІ // Костюк Г.І./Костюк Г.И./Kostiouk G.I.
• Праці співробітників ХАІ // Праці співробітників ХАІ/Труды сотрудников ХАИ