|
Автор: Фаттахов Я.В., Галяутдинов М.Ф., Львова Т.Н., Захаров М.В., Хайбуллин И.Б.
-
Анотація:
Описана оригинальная методика и проведены исследования динамики рекристаллизации и локального анизотропного плавленеия поверхности импланти рованного кремния при мощном облучении импульсами некорегентного света с различными длительностями и плотностями мощности излучения.
-
Є складовою частиною документа:
-
Теми документа
-
УДК // Вплив підведення тепла та температури на об’єм і структуру тіл
-
УДК // Дефекти в кристалах
-
УДК // Електронні напівпровідники
| 