Рассмотрены вопросы разработки и применения технологических радиационно-термических процессов (РТП), основанных на использовании операций облучения микросхем большими потоками быстрых электронов при высоких интенсивностях потоков для управления электрическими параметрами и повышения радиационной стойкости (РС).
