Методом "частиц в ячейках" (PIC) проведено моделирование разлета импульсной лазерной плазмы в интенсивном внешнем электрическом поле, используемом для ускорения ионов при имплантационной обработке материалов. Исследована динамика ионной и электрической компоненты, а также особенности распределения потенциала при подключении к обрабатываемой детали отрицательных высоковольтных импульсов различной формы.

Вестник Московского государственного технического университета им. Н.Э. Баумана.Сер. Приборостроение [Текст] : научно-теоретический и прикладной журнал. — 1998. — 4 : Специальный выпуск "Радиоэлектроника".

• УДК // Електронні пристрої із використанням властивостей твердого тіла. Напівпровідникові елементи