Зведений каталог бібліотек Харкова

 

Милешко, Л. П.
    Влияние процесса анодного окисления кремния на параметры диффузии примесей бора и фосфора из легированных оксидных пленок. [Текст] / Таганрогский государственный радиотехнический университет // Известия вузов. Электроника. — 2004. — С. 25-32.


- Анотація:

Приведены результаты исследования влияния на глубину залегания p-n-переходов, поверхностное сопротивление и поверхностную концентрацию диффузионных слоев следующих технологических факторов: химической и термической обработки; типа исходного анодируемого материала; плотности тока анодирования и температуры электролитов.

- Є складовою частиною документа:

- Теми документа

  • УДК // Електронні напівпровідники
  • УДК // Хімія. Кристалографія. Мінералогія



Наявність
Установа Кількість Документ на сайті установи
Науково-технічна бібліотека Національного аерокосмічного університету ім. М.Є. Жуковського   Перейти на сайт