Представлены разработки основ технологии получения автоэпитаксиальных слоев кремния на подложках цилиндрической формы, включая конструирование оборудования, выбор параметров процесса, оценку качества получаемых слоев. Такие слои могут быть в дальнейшем применены при изготовлении диодов Шотки непланарной конфигурации. Широко использовано математическое моделирование термоденамики и кинетики процессов.