Представлены результаты исследования возможности применения фотонных волноводных структур для измерения параметров нанометровых металлических слоев на изолирующих подложках. Показано, что выбором параметров фотонной структуры и частоты зондирующего излучения в области "окна" прозрачность, обусловленного облучением периодичности фотонной структуры, вследствие изменения толщины или диэлектрической проницаемости одного из слоев, возможно регулирование чувствительности коэффициента отражения к изменению толщины металлического слоя измеряемой структуры.

Известия вузов. Электроника. [Текст] // Известия вузов. Электроника ; Министерство образования РФ, Московский государственный институт электронной техники - М. : МИЭТ. — 2007.

• УДК // Електроніка. Мікроелектроніка
• УДК // Провідники та напівпровідники залежно від матеріалу виготовлення