В статье рассмотрены методы получения алмазоподобных покрытий. Проведен анализ вакуумных методов осаждения ?-С-слоев и указаны преимущества импульсного вакуумно-дугового метода. Показано, что управление характеристиками разряда и, следовательно, свойствами осаждаемого алмазоподобного углерода реализуется с помощью разрядного контура формирующей линии. Описан температурный режим подложки при импульсном нанесении ?-С-покрытий. Обоснован выбор импульсного ускорителя плазмы для технологических целей и необходимость разработки технологии синтеза алмаза и алмазоподобных структур.
