Представлены результаты экспериментального исследования влияния адсорбированного газа и поверхностных загрязнений взрывоэмиссионного катода на работу диода при генерации сильноточного электронного пучка наносекундной длительности. Влияние загрязнений определяли по изменению скорости расширения катодной плазмы планарного диода с катодами разной конструкции, изготовленными из разного материала, при изменении начального зазора анод-катод. Скорость плазмы рассчитывали из экспериментального первеанса диода с разрешением 0.2 нс. Эксперименты выполнены на импульсном электронном ускорителе ТЭУ-500 (350-450 кВ, 100 нс, 250 Дж в импульсе) в режиме согласования импеданса диода и выходного сопротивления наносекундного генератора. Получено, что скорость катодной плазмы постоянна в течение 70-90 нс после приложения напряжения для разных катодов и при разных зазорах анод-катод. Для катодов (разного диаметра) из углеродной ткани она составила 2 ± 0.5 см/мкс, для многоигольчатого вольфрамового катода - 3 ± 0.5 см/мкс, а для медного сплошного и многоострийного катодов - 4 ± 0.5 см/мкс. Существенная зависимость скорости плазмы от материала катода показывает, что влияние адсорбированного газа и поверхностных загрязнений катода на скорость расширения взрывоэмиссионной плазмы в планарном диоде в течение генерации электронного пучка (через 10-15 нс после приложения напряжения) незначительно.
