Исследованы зависимости характеристик глубокого травления кремния от параметров процесса. Для нахожднения оптимальных режимов, обеспечивающих высокую селективность к маске и снижения апертурного эффекта, применен метод планирования многофакторного эксперимента.

Известия вузов. Электроника. [Текст] // Известия вузов. Электроника ; Министерство образования РФ, Московский государственный институт электронной техники - М. : МИЭТ. — 2010.

• УДК // Електричні та магнітні датчики (перетворювачі)
• УДК // Механічна конструкція. Конструктивні матеріали та компоненти
• УДК // Хімічна завершальна обробка та обробка поверхні
• УДК // Хімія високоенергетичних процесів