Разработан компактный источник ионов газов, паров и ионов металлов и углерода на основе отражательного разряда с холодным полым катодом, в котором распыляемая ионами аргона с энергией до 10 кэВ плоская мишень (Cu, Mo, W, С) диаметром 6 мм устанавливается на дне изолированного от нее полого катода. Плотность потока ионов из катодной плазмы достигает 100 мА/см2 при ускоряющем напряжении до 10 кВ и токе разряда 0.2–0.5 А. Пары, образующиеся при ионном распылении мишени, ионизуются в катодной и анодной полостях. Пучок, содержащий ионы плазмообразующего газа и пара, извлекается через канал в отражательном катоде. Вместе с ионами выходит часть пара распыляемой мишени, поток которого достаточен для выращивания со скоростью 0.03 нм/с слоев на расстоянии 10 см от эмиссионного канала в условиях воздействия пучка ионов. Доля ионов металла в извлекаемом пучке составляет 0.05–0.1. Полный ток ионного пучка 20–30 мА.
