Зведений каталог бібліотек Харкова
Сагунова, И. В. Кинетика локального зондового окисления сверхтонких пленок металлов V,Nb,Ta,Ti, TiN, W [Текст] / Московский государственный институт электронной техники, г.Москва, Россия // Известия вузов. Электроника. — 2010. — С. 13-19.
- Анотація:
Установлено, что кинетику процесса определяют удельное сопротивление окисляемого материала, наличие на поверхности естественной оксидной пленки и ее толщина, соотношение удельных плотностей металла и оксида.
- Є складовою частиною документа:
Известия вузов. Электроника. [Текст] // Известия вузов. Электроника ; Министерство образования РФ, Московский государственный институт электронной техники - М. : МИЭТ. — 2010.
- Теми документа
