Приводены результаты травления широким пучком быстрых атомов аргона канавок глубиной до десятков микрометров на подложках из металла и диэлектрика. Установлены основные факторы, определяющие диаметр зоны с неоднородностью травления подложки не более ± 5% при формировании пучка источником с секционированной эмиссионной сеткой. Выявлена обусловленная секционированием сетки азимутальная неоднородность пучка, и для обеспечения заданной точности изготовления канавок использовано вращение подложек.

Упрочняющие технологии и покрытия [Текст] : научно-технический и производственный журнал // Упрочняющие технологии и покрытия - М. : Машиностроение , 2006. — М. : Машиностроение, 2010.

• УДК // Родовища вуглецевих порід. Родовища вуглеводнів
• УДК // Техніка та особливі методи механічної обробки