С появлением пленочных технологий естественным стремлением разработчиков стало выполнение в пленках всех элементов: резисторов, конденсаторов. Однако с переходом на фотолитографический метод формирования рисунков и из-за низкой надежности пленочных резисторов потребовался переход к резисторам навесного типа. В работе представлена методика определения оптимального количества чип-резисторов для заданной партии микросхем на основе полигауссова закона распределения погрешностей сопротивлений и применения ее на практике.
