Рассмотрены особенности развития специального вакуумного технологического оборудования и проблемы снижения привносимых им загрязнений; приведены данные по минимальным размерам топологии микросхем и устройствам без узлов трения для современного вакуумного технологического оборудования; показано, что такой подход обес-печивает создание современной индустрии высоких вакуумных технологий в радиоэлектронной промышленности.
