Описан плазменный источник электронов, предназначенный для формирования импульсного широкоапертурного электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений (5–20 Па). Источник основан на использовании тлеющего разряда с полым катодом. При ускоряющем напряжении 20 кВ, длительности импульса тока 100 мкс и частоте повторения 10 Гц ток электронного пучка составлял 100 А, а максимальная плотность энергии пучка в импульсе – 10 Дж/см2. Достигнутые параметры электронного пучка и особенности функционирования источника в форвакуумной области давлений позволяют эффективно его использовать для модификации поверхностных свойств непроводящих материалов.
