Описаны алгоритмы трансформации топологии субмикронных СБИС, ориентированные на применение для некоторых классов сложнофункциональных блоков, проектируемых для последующего производства по технологии двойного фотошаблона и удовлетворяющих условиям воспроизведения заданной топологии по технологии двойного фотошаблона. Показано, что для решения проблемы нахождения проектных решений необходимо использование приемов разрешения технических противоречий.