Исследована система со скрещенными магнитным и электрическим полями и вакуумно-дуговым источником плазмы для ионного осаждения и низковольтной ионной имплантации. Использование скрещенных ExB полей обеспечивает интенсивнуюионизацию газа и сдерживает расширение дебаевского слоя.

Вісті академії інженерних наук України.Спец.випуск.Машинобудування та прогресивні технології [Текст] // Вісті Академії інженерних наук України - К. — К., 2006.

• Праці співробітників ХАІ // Баранов О.О./Baranov O.
• УДК // Нанесення металевого та неметалевого покриття. Нанесення провідникового, напівпровідникового, діелектричного, магнітного покриття та плівок, а також плівок і покриття з електричним опром. Металізація
• УДК // Плазма (та коливання плазми) відповідно до стану/Различные состояния плазмы (и колебания плазмы)/Various conditions of plasma (and plasma fluctuations)
• Праці співробітників ХАІ // Праці співробітників ХАІ/Труды сотрудников ХАИ
• Праці співробітників ХАІ // Романов М.С./Romanov M.