Автор: Соболь О.В., Андреев А.А., Григорьев С.Н., Волосова М.А., Столбовой В.А., Фильчиков В.Е., Киданова Н.В., Антоненкова Г.В.
-
Анотація:
Установлены закономерности изменения фазового состава, структурного и напряженного состояний от величины низковольтного (-5...—230) В и высоковольтного (-850...—2000) В высокочастотного импульсного отрицательного потенциала, подаваемого на подложку во время осаждения TiN-покрытий, и толщины слоев TiN и Ti в многослойном TiN/Ti-покрытии. Проведен анализ причин наблюдаемых изменений, основываясь на механизме формирования поверхностных слоев вакуумно-дуговых покрытий в условии имплантационных процессов, стимулированных подачей отрицательного потенциала на подложку.
-
Є складовою частиною документа:
-
Теми документа
-
УДК // Різальні інструменти
|