Выявлены две основные задачиЮ решение которых необходимо для эффективного подавления микродуг в ионно-плазменных процессах. С помощью разработанной методики обработкт ЭОП-грамм импульсного разряда в пусковом плазменном инжекторе определены скорости перемещения катодных пятен 1-го типа, которые для данных условий эксперимента лежат в интервале 110+190 м/с.

Вопросы проектирования и производства конструкций летательных аппаратов [Текст] : сб. науч. тр.: спец. вып. / Нац. аэрокосм. ун-т им. Н. Е. Жуковского "Харьк. авиац. ин-т". — Х. : Нац. аэрокосм. ун-т им. Н. Е. Жуковского "Харьк. авиац. ин-т", 2010. — 340 с.

• Праці співробітників ХАІ // Бєлявський О.В./Белявский А.В.
• Праці співробітників ХАІ // Бреус А.О./Бреус А.А.
• Праці співробітників ХАІ // Воропай Р.В.
• Праці співробітників ХАІ // Костюк Г.І./Костюк Г.И./Kostiouk G.I.
• УДК // Нанесення покриття шляхом розпилення. Розпилення в полум'ї. Електродугова металізація. Плазмова металізація.
• Праці співробітників ХАІ // Праці співробітників ХАІ/Труды сотрудников ХАИ
• Праці співробітників ХАІ // Сисоєв А.Ю./Сысоев А.Ю.
• Праці співробітників ХАІ // Сисоєв Ю.О./Сысоев Ю.А.
• УДК // Фізика плазми