Рассматриваются особенности течения газа в канале плазмотрона с учетом влияния харак-тера перепривязки электрической дуги к стенке канала. Математическая модель базируется на магнитогазодинамическом описании плазмы как сплошной среды на основе уравнений газовой динамики, уравнений Максвелла и связей для термодинамических параметров в ионизированном газе. Учет приэлектродных процессов производился с использованием слоя с высокой электропроводностью порядка 8000 S/m, что соответствует температуре электронов 14000 К, толщина слоя принята 0,1 мм исходя из результатов, полученных в работе [2] при рассмотрении неравновесной модели. Показано, что модель дает качест-венное совпадение с имеющимися данными и пригодна для проведения численных экспе-риментов. Ключевые слова: плазма, приэлектродная область, электрическая дуга, плазмотрон, ка-тод, анод, опорное пятно дуги.
