Исследовано влияние магнитного поля планарного магнетрона на распределение ионного тока по подложке в установке для вакуумно-дугового метода осаждения покрытия, для двух конфигураций магнитного поля в зависимости от потенциала смещения подложки и давления газа.

Вісті академії інженерних наук України.Спец.випуск.Машинобудування та прогресивні технології [Текст] // Вісті Академії інженерних наук України - К. — К., 2009.

• Праці співробітників ХАІ // Баранов О.О./Baranov O.
• УДК // Магнетрони
• Праці співробітників ХАІ // Праці співробітників ХАІ/Труды сотрудников ХАИ