В работе выполнен комплексный анализ явлений, происходящих в ионно-плазменных технологиях, в которых плазма генерируется вакуумно-дуговым разрядом, и дана их классификация. Выделены и кратко охарактеризованы четыре основные зоны, различающиеся физикой и химией протекающих в них процессов.