Приведены результаты исследований по формированию проводящей пленки в разрядном промежутке пускового инжектора в процессе работы вакуумно-дугового источника плазмы. Пленка осаждалась на торцевую поверхность трубки из керамики, применяемой для заполнения разрядного промежутка пусковых инжекторов. Эксперименты выполнялись в условиях реального технологического процесса нанесения защитно-декоративных покрытий в источниках плазмы с магнитным удержанием катодного пятна и катодами из хрома и титана. Установлено влияние материала катода и условий осаждения покрытий на структуру и свойства пленок, получаемых на керамике состава Al2O3-SiO2-BaO2. Определена скорость роста пленок, которая варьируется в диапазоне 1,1 … 3,3 нм/с.
