Описано трибометрическое устройство, предназначенное для экспресс-контроля концентрации атомно-молекулярных загрязнений на поверхности полупроводниковых и диэлектрических подложек в диапазоне 10-7 - 10-10 г/см2 и основанное на измерении коэффициентов трения покоя и скольжения между исследуемыми поверхностями. Представлено расположение взаимодействующих подложек, формирующее точечный контакт и позволяющее исключить нарушения кристаллической структуры в области скольжения при нагрузках в диапазоне 0-3.7 H и углах между подложками 0-15°.
