Рассмотрена возможность использования процесса электронно-лучевого испарения и конденсации в вакууме (EB-PVD) для нанесения сплошных или дискретных покрытий, в том числе наноструктурных, на порошковые или гранулированные материалы. Представлены результаты микроструктур-ных исследований покрытий на порошках металлов и оксидов, осажденных при испарении материала покрытия (слитка), расположенного в традиционном цилиндрическом водоохлаждаемом тигле-испарителе. Разработана новая конструкция испарителя, обеспечивающего электронно-лучевое испарения металлов и сплавов в вакууме с формированием ориентированного в заданном направлении потока испаряемого вещества, в том числе под отрицательным углом к горизонтальной плоскости.
