Приводятся данные по нанесению тонких износостойких алмазоподобных (а.п.п.) и алмазных (а.п.) пленок. Нанесение пленок производилось методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) с применением сверхзвуковой высокотемпературной плазменой струи, генерируемой высокоэнтальпийным плазмотроном с секционированной межэлектродной вставкой и с газовой завесой стенок разрядной камеры холодным газом. Скорость осаждения а.п.п/а.п. составила до 30-50 мкм/ч. Найлучшие результаты (отсутствие в составе пленок графитовой фазы) получаются при найболее высокой степени ионизации сверхзвуковой плазменной струи.

Приборы и техника эксперимента [Текст] : научный журнал / РАН. — М.

• УДК // Оптична апаратура та прилади