Исследовано влияние основных электротехнических и геометрических параметров импульсного плазменного ускорителя второй ступени гибридной двухступенчатой импульсно-периодической плазменной установки атмосферного давления на параметры генерируемого высокоэнергетического импульсного плазменного образования. Исследование процессов на стадии импульсного сильноточного разряда проведено на основе системы уравнений электродинамического приближения. Выполнены численные расчеты и определены особенности ускорения плазменного образования в канале импульсного плазменного ускорителя. Показана связь между основными электротехническими и геометрическими параметрами импульсного плазменного ускорителя и скоростью плазменного образования. Сформулированы основные рекомендации по выбору схемного исполнения емкостного накопителя импульсного плазменного ускорителя. Показано, что для двухступенчатых импульсно-периодических плазменных установок атмосферного давления оптимальной является одно- или двухзвенная LC-цепь емкостного накопителя. Определены параметры разрабатываемых технологических установок, обеспечивающих формирование плазменных образований со скоростями до 5... 6 км/с.

Вестник Московского государственного технического университета им. Н.Э. Баумана.Сер. Приборостроение [Текст] : научно-теоретический и прикладной журнал. — 1998. — 4 : Специальный выпуск "Радиоэлектроника".

• УДК // Нанесення металевого та неметалевого покриття. Нанесення провідникового, напівпровідникового, діелектричного, магнітного покриття та плівок, а також плівок і покриття з електричним опром. Металізація
• УДК // Фізика плазми