Описан сильноточный импульсный импланер на основе сильноточного ионного диода с радиальным магнитным полем и предварительным плазмообразованием. Для образования плазмы на аноде диода используется импульс напряжения отрицательной полярности, предшествующий импульсу ускоряющего напряжения. Пауза между импульсами 500+-50 нс. В качестве эмиссионного покрытия анода используется графит. Получен ионный пучок с плотностью тока в фокальной плоскости диода до 80А/см2. Анализ элементарного состава ионного пучка с использованием времяпролетной методики показал, что ионный пучок в основном состоит из ионов углерода С+ и С+2 и протонов Н+.
