Предложена схема технологического устройства, которая позволяет обрабатывать детали на протяженных подложках (до 400 мм) потоками ионов плазмы вакуумно-дугового источника с помощью прогнозированной совокупности магнитных ловушек электронов плазмы путем использования системы дополнительных электромагнитов. Разработана методика расчета плотности ионного тока от вакуумно-дугового источника в объеме вакуумной камеры в присутствии дополнительных управляющих магнитных полей, что позволяет прогнозировать технологические режимы ионной обработки. Ключевые слова: плазменно-ионная обработка, управление ионными потоками.
