Проведено исследование внутренней газодинамики высокочастотного индукционного (ВЧИ) плазмогенератора для выявления факторов, определяющих характер течения газа и траектории распыляемой твердой фракции для задач нанесения покрытий и сфероидизации порошков. Для повышения эффективности процесса нанесения покрытий высокочастотным плазмогенератором выполнен сравнительный анализ профилей скоростей и температур внутри газоразрядного канала плазмотрона в зависимости от положения индуктора. Предложено математическое описание индукционной плазмы в рамках магнитогазодинамического подхода. В качестве объекта исследования выбран ВЧИ плазмотрон типа TEKNA 50. Ключевые слова: плазма, ВЧИ плазмотрон, излучение, поле скоростей, сфероидизация.
