Приведены результаты сравнения полученных максимальных температур, объема нанокластера (НК) и глубин его залегания при действии ряда различных ионов при квантово-механическом рассмотрении процессов и при использовании классических понятий о тепловом действии ионов. Показано, что значения максимальной температуры отличаются на 50 %, объема нанокластера в 2-10 раз, глубины залегания НК - на 1,05 - 2,5 раза, что свидетельствует о необходимости экспериментальной проверки этих результатов. Показана возможность прогнозирования качественных характеристик наноструктур. Ключевые слова: квантово-механический подход, наноструктуры, ионы, заряд иона.

Открытые информационные и компьютерные интегрированные технологии [Текст] : сб. науч. тр. — Х. : Нац. аэрокосмический ун-т "ХАИ", 2009. — 249 с.

• Праці співробітників ХАІ // Костюк Г.І./Костюк Г.И./Kostiouk G.I.
• Праці співробітників ХАІ // Мелкозьорова О.М./Мелкозерова О.М.
• УДК // Нанотехнологія
• Праці співробітників ХАІ // Праці співробітників ХАІ/Труды сотрудников ХАИ
• УДК // Процеси з використанням електричних розрядів, лазерів, плазми. Плазмові та плазмохімічні процеси/Процессы, использующие электрические разряды, лазеры, плазму/Plasma and plasmochemical processes