В классификацию методов нанесения тонких пленок в вакууме внесены новые разделы, которые отражают современный уровень развития технологии нанесения тонкопленочных покрытий в машиностроении, электронике, наноиндустрии и в других областях науки и техники. Представлены современные методы физического и химического нанесения тонких пленок в вакууме, такие как пароструйное осаждение, атомнослоевое осаждение, а также ряд методов, базирующихся на воздействии лазерного излучения на твердое, жидкое или газообразное вещество. Показаны методы лазерно-индуцированного переноса пленок, дугового испарения с сепарацией плазменного потока, низкоскоростное и сверхзвуковое пароструйное и кластерное осаждение, ионно-кластерный метод, импульсное лазерное осаждение или лазерная абляция. Методы химического осаждения дополнены лазернохимическим осаждением из газовой фазы, химической лучевой эпитаксией, лазерным разложением металлоорганических соединений, локальным лазерным термоактивированным синтезом и лазерной импульсной молекулярнолучевой эпитаксией. Ключевые слова: тонкие пленки; вакуум; физическое осаждение; химическое осаждение; машиностроение; электроника; нанотехнологии.
