Целью данной дипломной работы является исследование тонкопленочных технологий. Тонкие пленки не только являются основой тонкопленочных ГИС, но и широко используются и в полупроводниковых ИС. Поэтому методы получения тонких пленок относятся к общим вопросам технологии микроэлектроники. В данной дипломной работе рассмотрена тонкопленочная технология, ее роль в производстве интегральных схем. Рассмотрены основные виды проводниковых материалов. На основании полученных сведений приводится описание использования тонкопленочных технологий для производства элементной базы электронных аппаратов. ТОНКОПЛЕНОЧНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ, ИНТЕГРАЛЬНАЯ СХЕМА, МАТЕРИАЛЫ, ЭЛЕКТРОННЫЕ АППАРАТЫ, ПОДЛОЖКА, РЕЗИСТОР, КОНДЕНСАТОР Метою даної дипломної роботи є дослідження тонкоплівкових технологій. Тонкі плівки не тільки є основою тонкоплівкових ГІС, але й широко використовуються й у напівпровідникових ІС. Тому методи одержання тонких плівок ставляться до загальних питань технології мікроелектроніки. У даній дипломній роботі розглянута тонкоплівкова технологія, її роль у виробництві інтегральних схем. Розглянуто основні види провідникових матеріалів. На підставі отриманих відомостей приводиться опис використання тонкоплівкових технологій для виробництва елементної бази електронних апаратів. ТОНКОПЛІВКОВА ТЕХНОЛОГІЯ, ІНТЕГРАЛЬНА СХЕМА, МАТЕРІАЛИ, ЕЛЕКТРОННІ АПАРАТИ, ПІДКЛАДИНКА, РЕЗИСТОР, КОНДЕНСАТОР
