Об'єкт дослідження - технологічний процес нанесення наноструктурованих діелектричних плівок. Предмет дослідження - математична модель технологічного процесу отримання наноструктурованих діелектричний плівок методом інно-плазмового розпилення. Методи дослідження: іонно-плазмовий метод, метод найменших квадратів, хімічне осадження, напилення у вакуумі. Мета роботи - розробка автоматизованої системи управління одержання наноструктурованих діелектричний плівок методом інно-плазмового розпилення з використанням магнетрона розпилювальної системи. У результаті аналізу залежностей електрофізичних характеристик діелектричних плівок, отриманих реактивним катодним розпиленням в магнетронній розпилювальної системі, від технологічних параметрів побудована математична модель технологічного процесу та визначено оптимальні керуючі впливи. Удосконалено схему установки на базі установки УВН-71П. На основі математичної моделі розроблено удосконалений технологічний процес отримання наноструктурованих діелектричних плівок запропонованим методом, побудований алгоритм управління технологічним процесом ТЕХНОЛОГІЧНИЙ ПРОЦЕС, АВТОМАТИЗАЦІЯ, НАНОСТРУКТУРОВАНІ ПЛІВКИ, ІОННО-ПЛАЗМЕННИЙ МЕТОД, МЕТОД НАЙМЕНШИХ КВАДРАТІВ. Объект исследования - технологический процесс нанесения наноструктурированных диэлектрических пленок. Предмет исследования - математическая модель технологического процесса получения наноструктурированных диэлектрический пленок методом инно-плазменного распыления. Методы исследования: ионно-плазменный метод, метод наименьших квадратов, химическое осаждение, напыление в вакууме. Цель работы - разработка автоматизированной системы управления получения наноструктурированных диэлектрический пленок методом инно-плазменного распыления с использованием магнетронной распылительной системы. В результате анализа зависимостей электрофизических характеристик диэлектрических пленок, полученных реактивным катодным распылением в магнетронной распылительной системе, от технологических параметров построена математическая модель технологического процесса и определены оптимальные управляющие воздействия. Усовершенствована схема установки на базе установки УВН-71П. На основе математической модели разработан усовершенствованный технологический процесс получения наноструктурированных диэлектрических пленок предложенным методом, построен алгоритм управления технологическим процессом ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ПРОЦЕСС, АВТОМАТИЗАЦИЯ, НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫЕ ПЛЕНКИ, ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЙ МЕТОД, МЕТОД НАИМЕНЬШИХ КВАДРАТОВ The object of research - the technological process of applying nanostructured dielectric films. Subject of research - mathematical model of technological process of nanostructured dielectric films by INNO-plasma spraying. Methods: ion-plasma method, least squares method, chemical vapor deposition, sputtering in a vacuum. The purpose of the work - development of automated control system produce nanostructured dielectric films by plasma sputtering inno using magnetron sputtering system. The analysis of the electrical characteristics of dependency of dielectric films prepared by reactive sputtering in a magnetron sputtering system of technological parameters of a mathematical model of the process and the optimal control action. Improved installation scheme on the basis of the installation UVN-71P. On the basis of a mathematical model developed by the improved process for producing nanostructured dielectric films proposed method, an algorithm for process control. TECHNOLOGICAL PROCESS, AUTOMATION, NANOSTRUCTURED FILMS, ION-PLASMA METHOD, METHOD OF LEAST SQUARES
