Зведений каталог бібліотек Харкова
Герасименко, Н. Н. Свойства подзатворного окисла р-канальных МДП-транзисторов, сформированных имплантацией ионов BF2+ [Текст] / Н.Н. Герасименко, А.Н. Тарасенков, Е.В. Кузнецов, Є.Ю. Денисенко // Известия высших учебных заведений. Электроника : научно-технический журнал. — М., 2003. — №6. — С.7-11.
- Ключові слова:
- Анотація:
Приведены результаты исследований электрических параметров подзатворного окисла р-канальных МДП-транзисторов. При формировании областей сток-исток использовался ион BF2+. Показано, что количество "внешних" дефектов в подзатворном оксиде МДП-структур снизилось в три раза, ток, при котором происходил пробой подзатворного диэлектрика, увеличился от 1 до 5-6 мА; снижен эффективный заряд в позатворном диэлектрике
- Є складовою частиною документа:
Известия высших учебных заведений. Электроника [Текст] : научно-технический журнал. — М., 2003. — №6.