Зведений каталог бібліотек Харкова

 

Герасименко, Н. Н.
    Свойства подзатворного окисла р-канальных МДП-транзисторов, сформированных имплантацией ионов BF2+ [Текст] / Н.Н. Герасименко, А.Н. Тарасенков, Е.В. Кузнецов, Є.Ю. Денисенко // Известия высших учебных заведений. Электроника : научно-технический журнал. — М., 2003. — №6. — С.7-11.


- Ключові слова:

електронна техніка, электронная техника ; гальванотехніка, гальванотехника ; мікроелектроніка, микроэлектроника, microelectronics ; транзистори, транзисторы, transistors

- Анотація:

Приведены результаты исследований электрических параметров подзатворного окисла р-канальных МДП-транзисторов. При формировании областей сток-исток использовался ион BF2+. Показано, что количество "внешних" дефектов в подзатворном оксиде МДП-структур снизилось в три раза, ток, при котором происходил пробой подзатворного диэлектрика, увеличился от 1 до 5-6 мА; снижен эффективный заряд в позатворном диэлектрике

- Є складовою частиною документа:

Наявність
Установа Кількість Документ на сайті установи
Наукова бібліотека Харківського національного університету радіоелектроніки   Перейти на сайт