Зведений каталог бібліотек Харкова

 

Yu, Chuanzhao
    Channel Hot-Electron Degradation on 60-nm HfO2-Gated nMOSFET DC and RF Performances [Електронний ресурс] [Текст] / Chuanzhao Yu, J.S. Yuan, John Suehle // IEEE Transactions on Electron Devices . — USA, 2006. — 5. — Pp. 1065-1072.


- Ключові слова:

шуми, шумы ; радіочастоти, радиочастоты

- Анотація:

Channel hot-carrier-induced dc and RF performance degradations in 60-nm high-k nMOSFETs are examined experimentally. RF performances such as the cutoff frequency, noise figure, linearity, and flicker noise of high-k MOSFETs show significant vulnerability to the hot-electron effect. Analytical equations for normalized RF degradations relating to the device dc and ac parameters are derived. Good agreement between the analytical predictions and experimental data is obtained. The accuracy of the model equations suggests fast and effective evaluation of noise figure and linearity degradations using simple dc and ac parameters directly.

- Електронні версії документа:

- Є складовою частиною документа:

Наявність
Установа Кількість Документ на сайті установи
Наукова бібліотека Харківського національного університету радіоелектроніки   Перейти на сайт