З допомогою формул Ейрі розраховані залежності еліпсометричних параметрів від кута падіння світла для системи тонка плівка Мо - діелектрична підкладка з кварцу і сапфіру з перехідним шаром окису молібдену МоО3 на межі поділу металічна плівка - діелектрична підкладка. Цей перехідний шар відіграє важливу роль у формуванні величини адгезії плівки до підкладки - він підвищує адгезію. Показано, що поляритонні еліпсометричні методи значно чутливіші при визначенні тонкого перехідного шару між металічною плівкою і підкладкою ніж відомі абсорбційні методи.
Ключові слова: еліпсометрія, поляритони, азимут відновленої лінійні поляризації, зсув фаз.
Using Eyri"s formulas we calculated dependences for elipsometric parameters of an angle of incidence for thin Mo films - sapphire or quarts insulator substrate with transition coat of MoO3 oxide at metal film - insulator substrate interface. This transition layer plays a vital part at forming of adhesion value film to substrate - he increases adhesion. It is shown, that polariton elipsometric methods are more sensitive at detection of thin transition coating between metal film and substrate than absorption methods.
Key Words: elipsometry, polaritons, an azimuth of recovered linear polarization, a phase shift.
