Зведений каталог бібліотек Києва

 

ЗмінамікроСтебленко, Л. П.
    Зміна мікротвердості кристалів кремнію, індукована слабоінтенсивним рентгенівським випромінюванням [Текст] / Л.П. Стебленко, С.М. Науменко, О.М. Кріт та ін. // Вісник Київського національного університету імені Тараса Шевченка. — Київ, 2009. — 2009. — С. 335-338.


Автор: Стебленко Л.П., Науменко С.М., Кріт О.М., Коплак О.В., Кобзар Ю.Л., Курилюк A.M., Руденко О.В.

- Анотація:

У роботі досліджується вплив слабоінтенсивного рентгенівського

випромінювання на мікротвердість кристалів кремнію. Виявлено особливості радіаційно-механічного ефекту (ефекту зміни мікротвердості в результаті впливу рентгенівського опромінення на кристали Si). Установлено, що величина й характер релаксації радіаційно-механічного ефекту залежать від дози рентгенівського опромінення та концентрації кисню.

Ключові слова: кремній, рентгенівське опромінення, мікротвердість, радіаційно-механічний ефект.

The influence of weak intensive X-ray radiation on microhardness of silicon crystals is investigated. Features of radiation-mechanical effect (effect of microhardness change as a result of X-ray irradiation influence on Si crystals) are revealed. It is established that a value and character of relaxation of radiation-mechanical effect dependence on a dose of X-ray irradiation and concentration of oxygen.

Key Words: silicon, X-ray radiation, microhardness, radiationmechanical effect.

- Є складовою частиною документа:

- Теми документа

  • Окремі фонди та колекції КНУ // праці авторів КНУТШ, труды авторов КНУТШ, работы авторов КНУТШ



Наявність
Установа Кількість Документ на сайті установи
Наукова бібліотека ім.М.Максимовича Київського національного університету імені Тараса Шевченка   Перейти на сайт