Методами електронної оже- спектроскопії та іонізаційної спектроскопії досліджено взаємодію кисню з поверхнею сплаву Si0,88Ge0,12 Показано, що германій стимулює процеси окиcлення кремнію і накопичення кисню відбувається набагато швидше ніж на чистому кремнії та поверхні кремнію Si(001) вкритою шарами сурфактантів. Головну роль в цьому процесі відіграють поверхневі напруження, які призводять до стимуляції окислювальних процесів кремнію.
Ключові слова: адсорбція, окислення, германій, кремній.
Oxygen interaction with surface Si0,88Ge0,12 alloy has been investigated by Auger electron spectroscopy and ionization spectroscopy. It was shown that the germanium stimulates processes of oxidation of silicon surface. The main role in this process play the surface stress strain, which results in inducing acidizing processes of silicon.
Keywords: adsorption, oxidation, germanium, silicon.
