електричне поле, электрическое поле ; плазма, plasma ; плазмова електроніка, плазмовая электроника
Шляхом комп'ютерного моделювання показано, що на початковій стадії розвитку плазмово-пучкової нестійкості в області, де досягається максимум інтенсивності високочастотного поля, формується потік електронів фонової плазми, спрямований назустріч електронному пучку. Виникнення цього потоку пов'язується з початковим етапом деформації профілю концентрації плазми під впливом тиску неоднорідного високочастотного електричного поля.
Formation of the flow of the background plasma electrons moving to the electron beam injector at the initial stage of the beamplasma instability in the region of maximum HF electric field intensity is demonstrated via computer simulation. This flow is caused by the initial stage of the plasma density profile deformation due to thepressure of the inhomogeneous HF electric field.
