|
Автор: Находкін М.Г., Куліш М.П., Литвин П.М., Родіонова Т.В., Сутягіна А.С.
-
Ключові слова:
електронна мікроскопія, электронная микроскопия ; кремній, кремний ; напівпровідникові наноструктури, полупроводниковые наноструктуры ; тонкоплівкові напівпровідникові структури
-
Анотація:
Методами просвічуючої електронної мікроскопії та атомної силової мікроскопії досліджено вплив товщини нелегованих нанокремнієвих плівок, що отримані методом хімічного осадження в реакторі зниженого тиску, на характеристики їх поверхневого мікрорельєфу. Встановлена кореляція між зростанням розмірів неоднорідностей мікрорельєфу поверхні плівок та зміною типу структури плівок від рівноосьової до волокнистої.
The surface roughness depending on thickness of nanosilicon films, produced by low-pressure chemical vapor deposition, has been investigated as by transmission electron microscope and atomic force microscope. It has been established the correlation between increasing of surface roughness and changing of film structure from equiaxial to fibrous.
-
Є складовою частиною документа:
-
Теми документа
-
Окремі фонди та колекції КНУ // праці авторів КНУТШ, труды авторов КНУТШ, работы авторов КНУТШ
| 