Описано схему експериментальної установки дугового напи-лення вуглецевих плівок та покриттів у вакуумі з викорис-танням підкладки, температуру якої можна регулювати вмежах від мінус 100 …+1000 ?С. Потоки плазми з катодапропускаються через магнітний сепаратор, який очищує ро-бочу речовину від краплинної фази. Температура підкладкивимірюється спеціально розробленою електронною схемою,що може працювати під час подачі на підкладку прискорю-вального потенціалу до 1500 В.
