В работе изложены основы высокого вакуума, рассмотрены конструкции вакуумных насосов и обоснован их выбор при производстве пленочных микросхем, рассмотрены конструкторско-технические вопросы получения металлических масок, необходимых при изготовлении пленочных микросхем.
