Зведений каталог бібліотек Миколаєва

 

537.52+66.088
Чапон, П.
    Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS [Текст] / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації [Текст] : Науково-практичний журн. — С. 34-38.


- Анотація:

Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью.

- Є складовою частиною документів:

- Теми документа

  • УДК // Електричні розряди
  • УДК // Процеси з використанням електричних розрядів. Процеси з використанням лазерів. Процеси з використанням плазми. Плазмові і плазмохімічні процеси



Наявність
Установа Кількість Документ на сайті установи
Наукова бібліотека Миколаївського національного університету імені В. О. Сухомлинського